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另外值得一提的是，三星电子已为平泽半导体基地P5晶圆厂集群首期工程PH1采购七十余台光刻机，为2027年投产做好准备。平泽P5 PH1所需光刻设备来自ASML和佳能，其中约二十台为ASML极紫外光刻系统。P5 PH1将应用于1c纳米制程DRAM生产，同步制造通用存储器与高带宽内存。（财联社）
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